粉体行业在线展览
热压阳极键合设备
面议
青禾晶元
热压阳极键合设备
22
项目
指标
晶圆尺寸
6、8、12inch
适配材料
Si, Cu, Au, Au-Sn, Al-Ge, etc.
**温度
550℃
**压合力
100kN,控制精度 ≤±1%
升温速度
30℃/min
温度均匀性
±1.2%或±2℃,取大者
压力均匀性
±3%或±40N,取大者
阳极电压电流
≤2kV,≤100mA
键合后精度
≤5μm,≤2μm
上料模式
Cassette、SMIF、Foup可选
键合气氛
真空、甲酸、H自由基、惰性气氛
SAB9510-半自动 超原子束TRIM机
SAB9500-半自动 超原子束抛光机
SAB8300-半自动 C2C TCB键合设备
SAB8310CW-全自动 C2W TCB键合设备
SAB8210CW-全自动 C2W混合键合设备
SAB6410TB-全自动 临时键合设备
热压阳极键合设备
SAB6310-全自动 热压阳极键合设备
SAB6300-半自动 热压阳极键合设备
SAB6210 HB-全自动 混合键合设备
SAB6210-全自动 亲水性键合设备
SAB6110 CST -全自动高产能 超高真空常温键合设备
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037