粉体行业在线展览
PNX332B
面议
PNX332B
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PNX332B 是全自动通用抛光型设备,不仅可以处理氧化层和金属膜,而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载有8个抛光头,3个抛光台,同时可以对6片晶圆进行抛光,同时搭载3个抛光液料桶,分别给每个抛光台提供抛光液,每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛,每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路,可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全球12寸硅片衬底的抛光占有率达到80%以上,今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献!
PNX332B 是全自动通用抛光型设备,不仅可以处理氧化层和金属膜,而且可以去除晶圆表面损伤层。该机型搭载有8个抛光头,3个抛光台,同时可以对6片晶圆进行抛光,同时搭载3个抛光液料桶,分别给每个抛光台提供抛光液,每个抛光台可以根据客户需求进行粗抛或者精抛,每个抛光台都配有抛光液和纯水的管路,可以自动切换纯水或者抛光液。该机型在全球12寸硅片衬底的抛光占有率达到80%以上,今后也会将会在8寸碳化硅衬底的全自动抛光做出应有贡献!
性能参数
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037